Productoverzicht

Deze maskerloze lithografiemachine is, simpel gezegd, een machine die ingewikkelde patronen op materialen kan etsen zonder een 'masker'. Het is flexibeler en kosteneffectiever dan traditionele stencillithografie, en maakt snelle patroonaanpassingen mogelijk, waardoor het geschikt is voor onderzoek, productie in kleine{2}} batches en onderwijs.

Het wordt geleverd in vier hoofdmodellen:

1. De maskerloze lithografiemachine in de onderzoeksversie is geschikt voor laboratoriumonderzoek, hanteert materialen van 6 inch en is in staat patronen zo fijn als 0,4 micrometer te etsen, wat een hoge precisie biedt;

2. De maskerloze lithografiemachine met hoge-snelheid is bedoeld voor de productie van kleine- batches en verwerkt materialen van 8 inch met uitzonderlijk hoge snelheden, tot 2500 vierkante millimeter per minuut;

3. De maskerloze lithografiemachine in de educatieve versie is een klein desktopmodel, slechts 2 inch groot, ideaal voor lesgeven in de klas en eenvoudig te bedienen;

4. De ultra-grootformaatversie die materialen van 2- meter kan verwerken en voldoet aan specifieke grootschalige verwerkingsbehoeften.

Of het nu gaat om het maken van kleine chipcomponenten, microfluïdische chips voor biologische experimenten of educatieve demonstraties, er is een model dat aan uw behoeften voldoet, waardoor u tijd en geld bespaart omdat u geen masker meer nodig heeft.

Als u wilt weten hoe u een bepaald model moet gebruiken, of welk model u moet kiezen voor een bepaald type verwerkingsscenario, neem dan contact op met ons bedrijf. Wij leggen het u uitgebreid uit aan de hand van de productbrochure.

Voordelen

Flexibel ontwerp, geen maskers nodig

Kritische maatnauwkeurigheid tot 400 nm

Snelheid tot 1200 mm2/min

Blootstellingsoppervlak tot 4 m2

Grijswaardenlithografie tot 4096 niveaus

Parameters

Model	MLM 100	MLM 200	MLM 300
Kritische dimensie	0.8 μm	0.4 μm
Minimale regels en spaties	1.0 μm	0.8 μm
Belichtingssnelheid	Lens①:3 mm²/min Lens②: 20 mm²/min Lens③: 100 mm²/min	Lens①: 1 mm²/min Lens②: 3 mm²/min Lens③: 20 mm²/min Lens④: 100 mm²/min	Lens①: 10 mm²/min Lens②: 60 mm²/min Lens③: 150 mm²/min
Nauwkeurigheid van overlay (5 mm × 5 mm)	400 nm	350 nm
Nauwkeurigheid van overlay (50 mm × 50 mm)	1000 nm	700 nm
Golflengte	LED: 405 nm / 380 nm	LED: 405 nm / 390 nm
Geautomatiseerde lenswisseling	Ondersteund
Grijstinten	Optioneel	Ondersteund	Niet-optioneel
Substraatgrootte	3 mm × 3 mm (min) en 150 mm × 150 mm (max)
Dikte van het substraat	0-10 mm
Gegevensformaat	GDS & DWG & DXF
Afmetingen (L×B×H)	750 mm × 800 mm × 700 mm	1150 mm × 950 mm × 2000 mm
Gewicht	320 kg	590 kg
Installatievereisten	Totale oppervlakte: 1,5 m× 1,5 m Vermogen: 1,3 kW; Temperatuur: 20-30 graden; Vochtigheid: RV 40-60% Voeding:220 V ±5%, 50 Hz ±1 Hz, 10 A	Totale oppervlakte: 2,2 mx 1,7 m Vermogen: 1,4 kW; Temperatuur: 20-30 graden; Vochtigheid: RV 40-60% Voeding:220 V ±5%, 50 Hz ±1 Hz, 10 A

Model	MLM 400	MLM 500
Kritische dimensie	1.0 μm	0.5 μm
Minimale regels en spaties	2.0 μm	0.5 μm
Belichtingssnelheid	Lens①: 1000 mm²/min Lens②: 2500 mm²/min	Lens①: 75 mm²/min Lens②: 300 mm²/min Lens③: 1200 mm²/min
Nauwkeurigheid van overlay (5 mm × 5 mm)	500 nm	250 nm
Nauwkeurigheid van overlay (50 mm × 50 mm)	1000 nm	500 nm
Golflengte	LD:405 nm / 375 nm
Geautomatiseerde lenswisseling	Ondersteund
Grijstinten	Optioneel
Substraatgrootte	3 mm × 3 mm (min) en 200 mm × 200 mm (max)
Dikte van het substraat	0-10 mm
Gegevensformaat	GDS & DWG & DXF
Afmetingen (L×B×H)	1700 mm× 1300 mm× 1950 mm
Gewicht	1400 kg
Installatievereisten	Totale oppervlakte: 2,7 mx 2,3 m Vermogen: 2,4 kW; Temperatuur: 20-26 graden; Vochtigheid: RV 40-60% Voeding:220 V ±5%, 50 Hz ±1 Hz, 16 A

Veelgestelde vragen

Wat is het grootste voordeel van deze machine ten opzichte van traditionele lithografiemachines?

Het elimineert de noodzaak voor "maskers" (de sjablonen die worden gebruikt in traditionele lithografie). Patroonwijzigingen worden rechtstreeks in de software aangebracht, waardoor de kosten en tijd bij het voorbereiden van de sjabloon worden bespaard. Dit maakt proefproductie in kleine- batches en onderzoek naar nieuwe ontwerpen veel eenvoudiger.

Hoe fijn kan het etsen? Hebben verschillende modellen verschillende precisie?

De nauwkeurigheid is afhankelijk van het model: de onderzoeksversie kan tot 0,4 micrometer etsen, de hoge-snelheidsversie 0,5 micrometer en de educatieve versie 1,5 micrometer, wat voldoende is voor het meeste dagelijkse onderzoek en productie.

Welk formaat materialen kan het aan?

Kleinere materialen zijn onder meer de educatieve versie (2 inch, ongeveer 5 cm), de onderzoeksversie (6 inch) en de hoge-snelheidsversie (8 inch). Voor ultra-grotere materialen zijn er modellen die tot 2 meter kunnen etsen, geschikt voor grote sensoren en flexibele displays.

Hoe snel is het? Is het geschikt voor productie in kleine- batches?

De hoge-versie kan tot 2500 vierkante millimeter per minuut etsen, voldoende voor productie in kleine- batches. De onderzoeksversie geeft prioriteit aan precisie, maar de snelheid voldoet ook aan experimentele behoeften zonder lange wachttijden.

Kan het naast standaard materialen ook speciale materialen graveren?

Het kan diamanten, optische vezels en zelfs gebogen kleine motorbladen graveren. Het kan ook worden uitgerust met een handschoenenkastje voor het hanteren van materialen die gevoelig zijn voor water en zuurstof (zoals micro-LED's en magnetische oxiden).

Kan het gebruikt worden in het onderwijs op school? Zijn er geschikte modellen?

Er is een educatieve versie beschikbaar. Het is desktopformaat-, eenvoudig te bedienen en perfect voor studenten om de principes van fotolithografie te oefenen. De nauwkeurigheid van 1,5 micron is voldoende voor het aanleren van experimenten.

Is de lichtbron vast? Kan het veranderd worden?

De standaardinstelling is 405 nm ultraviolet licht. Voor speciale behoeften kunnen andere golflengten (zoals 380 nm en 375 nm) worden geselecteerd zonder de hele eenheid te vervangen.

Populaire tags: maskerloze lithografiemachine, China maskerloze lithografiemachinefabrikanten, leveranciers