Productoverzicht
Dit magnetronsputtersysteem is gebouwd voor de afzetting van dunne metaalfilms bij de productie van halfgeleiders. Het wordt veel gebruikt in geïntegreerde schakelingen, stroomapparaten en geavanceerde verpakkingen. Het systeem ondersteunt wafers van 6 inch en 8 inch en levert stabiele, herhaalbare dunnefilmgroei voor zowel R&D als volumeproductie.
Voordelen
1. De clusterstijl en het modulaire ontwerp maken het eenvoudig te configureren en uit te breiden voor verschillende procesbehoeften.
2. Volledig geautomatiseerde waferhantering met volledige hulpfuncties houdt de werking stabiel en vermindert handmatige tussenkomst.
3. De lay-out met één kamer en één doel ondersteunt parallelle en synchrone processen, waardoor de algehele efficiëntie wordt verbeterd.
4. Hoge vacuümprestaties tot ~6E 6 Pa en uniformiteit van de plaatweerstand van minder dan of gelijk aan 3% zorgen voor een consistente filmkwaliteit op de wafers.
Toepassingen
1. Geïntegreerde circuits: gebruikt voor het aanbrengen van metalen verbindingen, elektroden en barrièrelagen in front-end- en back-endprocessen.
2. Vermogensapparaten: ondersteunt de vorming van metaalfilms voor elektroden, metallisatie en passivatie in hoogspannings- en hoogvermogencomponenten.
3. Geavanceerde verpakking: biedt betrouwbare metallisatie voor herverdelingslagen (RDL), bumping en andere verbindingsstructuren voor verpakkingen.
Veelgestelde vragen
Vraag: Waar wordt dit magnetronsputtersysteem eigenlijk voor gebruikt?
A: Het is een hulpmiddel voor het afzetten van dunne-films-voornamelijk voor het aanbrengen van metaalfilms bij de productie van halfgeleiders. Denk aan geïntegreerde schakelingen, stroomapparaten en geavanceerde verpakkingsprocessen-dat zijn de belangrijkste gebruiksscenario's.
Vraag: Welke wafelformaten kan het aan?
A: Op dit moment werkt het met 6-inch en 8-inch wafers. Perfect voor zowel R&D-werk in het laboratorium als grootschalige productielijnen.
Vraag: Hoe laag kan het vacuümniveau worden?
A: We praten over ongeveer 6E-6 Pa voor het procesvacuüm. Dat is van cruciaal belang voor het verkrijgen van consistente dunne films van hoge kwaliteit.
Vraag: Hoe consistent is de filmuniformiteit?
A: De uniformiteit van de plaatweerstand ligt op minder dan of gelijk aan 3%-, dus u zult geen grote variaties tussen de wafers zien, wat essentieel is voor betrouwbare apparaatprestaties.
Vraag: Wat maakt dit systeem zo bijzonder bij dagelijks gebruik?
A: Het zijn de kleine dingen die het verschil maken: modulair ontwerp in cluster--stijl (superflexibel voor op maat gemaakte instellingen), volledig geautomatiseerde waferverwerking (minder handmatig werk) en een enkele-kamer-enkele- doelindeling (laat processen parallel lopen, waardoor de efficiëntie wordt vergroot).
Vraag: Is het geschikt voor geavanceerde verpakkingstoepassingen?
EEN: Absoluut. Het wordt veel gebruikt voor metallisatie in geavanceerde verpakkingen-zoals RDL (herverdelingslagen), bumping en andere verbindingsstructuren waarvoor betrouwbare metaalfilms nodig zijn.
Populaire tags: magnetron sputtersysteem, China magnetron sputtersysteem fabrikanten, leveranciers
