Productoverzicht

De Desktop RTP-apparatuur De apparatuur is aanpasbaar aan kleine- wafers en heeft een compact ontwerp en flexibele plaatsing. De temperatuurregeling omvat kamertemperatuur tot 800 graden (thermokoppel) en 500 graden tot 1200 graden (infraroodpyrometer), met een maximale verwarmingssnelheid van 150 graden/s (alleen wafer). De temperatuuruniformiteit is kleiner dan of gelijk aan ±3 graden (kleiner dan of gelijk aan 600 graden) / kleiner dan of gelijk aan ±0,5% (＞600 graden), en de reproduceerbaarheid is ±1 graad, wat een nauwkeurige temperatuurregeling garandeert. Het maakt gebruik van handmatige laad-/losmodi en deuropenings-/sluitmodi, is uitgerust met een zoemer en waarschuwingslichten en ondersteunt pc-besturing. Desktop RTP-apparatuur kan voldoen aan de basisvereisten voor snelle thermische verwerking, zoals ionenimplantatie-gloeien en oxidegroei in R&D in laboratoria en scenario's voor kleine batchproductie.

Voordelen

Zeer aanpasbaar aan de ruimte: het compacte ontwerp maakt flexibele plaatsing mogelijk, vereist minimale ruimte en is geschikt voor laboratoria of kleine-batchproductieomgevingen met beperkte ruimte.

Nauwkeurige en stabiele temperatuurregeling: temperatuuruniformiteit bereikt minder dan of gelijk aan ± 3 graden (kleiner dan of gelijk aan 600 graden) / kleiner dan of gelijk aan ± 0,5% (> 600 graden), en voldoet aan de temperatuurnauwkeurigheidsvereisten van basisprocessen.

Veilige en intuïtieve bediening: Uitgerust met een zoemer en waarschuwingslichten geeft hij onmiddellijk de status van de apparatuur aan, waardoor operationele risico's worden verminderd. PC-besturing wordt ondersteund en parameteraanpassing is handig.

Goed aanpassingsvermogen aan basisprocessen: ondersteunt een minimale druk van 30 mTorr en een zuurstofgehalte van<3ppm. With 4-channel maximum MFC, it meets basic vacuum and atmosphere requirements, adapting to various simple and rapid heat treatment scenarios.

Toepassingen

Ionenimplantatie gloeien

Eenvoudige oxide-/nitridegroei

Voorbehandeling met silicidelegeringen

Voorlopige ohmse contactlegering

Andere warmtebehandeling van kleine monsters

Parameters

Model	RTP-100
Wafelgrootte	6 inch en lager
Maat	910 mm×860 mm×695 mm (B×D×H)
Temperatuurbereik	RT~~800 graden (gecontroleerd door thermokoppel) 500 graden ~1200 graden (gecontroleerd door pyrometer)
Maximale verwarmingssnelheid	150 graden/s --- Alleen wafeltje 20 graden /s --- SiC-drager 30 graden /s --- Grafietdragercoating SiC
Uniformiteit van de temperatuur	Kleiner dan of gelijk aan ±3 graden @ Kleiner dan of gelijk aan 600 graden Minder dan of gelijk aan ±0,5% @ >600 graden
Herhaalbaarheid van de temperatuur	±1 graad
Aantal lampen/SCR's	29 stuks / 10 sets
Maximale MFC	4
Laagste druk	30mTorr
Lekpercentage	10mTorr/min
O₂Percentage	<3 ppm
Max./Gemiddeld vermogen	60/36 Kw
Spanning	380V/60HZ/3 fase 5 draden
Controlemethode	PC-besturing

Veelgestelde vragen

De zoemer klinkt en het waarschuwingslampje gaat branden na het opstarten?

Druk eerst op "RESET" om het alarm te stoppen. Controleer of de ovendeur goed gesloten is en of het deurslot goed vastzit. Als het probleem aanhoudt, controleer dan de bedrading van de deurslotsensor.

Welke voorzorgsmaatregelen moeten worden genomen bij het handmatig laden en lossen van wafers?

Draag schone handschoenen om besmetting te voorkomen. Behandel de wafer voorzichtig om botsingen te voorkomen en zorg ervoor dat deze gecentreerd is op de drager.

Hoe schakel ik tussen thermokoppel/infrarood-pyrometer-temperatuurregeling?

Switch the "Temperature Control Mode" in the PC software: Use thermocouple for ≤800℃, manually switch to infrared for >800 graden. Het systeem kalibreert automatisch na het overschakelen.

De verwarmingssnelheid is niet 150 graden/s (alleen wafer)?

Bevestig dat er geen drager is (SiC/grafietdragers beperken het tarief); controleer of alle lampen goed functioneren. Defecte onderdelen vereisen after--service.

Temperatuuruniformiteit groter dan ±3 graden (kleiner dan of gelijk aan 600 graden)?

Bevestig wafer Minder dan of gelijk aan 6 inch; controleer het lampvermogen in de software, als het abnormaal is, geef dan advies van een technicus voor fijnafstelling; Maak de kwartskamer regelmatig schoon en kalibreer vervolgens.

Oxidatie van het wafeloppervlak?

Controleer of het vacuüm minder dan of gelijk is aan 30 mTorr (indien onvoldoende, controleer op lekkage en vervang de vacuümpompolie); bevestig het O₂-gehalte < 3 ppm (indien overschreden, vervang de gasfles/controleer op lekkages in de pijpleiding).

Belangrijke punten van dagelijks onderhoud?

Veeg de kwartskamer wekelijks af met alcohol, controleer de lampeenheid elke 3 maanden (vervang na 1000 uur), controleer de afdichtring maandelijks op veroudering, zorg ervoor dat de waterkoeling niet hoger is dan 70 graden.

Het Desktop RTP Equipment lagedrukalarm?

A: Sluit het proces af, controleer de vacuümleiding, start de pomp opnieuw op; als het nog steeds abnormaal is, controleer dan de lekkagesnelheid (als deze hoger is dan 10 mTorr/min, lokaliseer en repareer dan het lek).

PC kan geen parameters lezen?

Controleer de communicatiekabel tussen het apparaat en de pc, start opnieuw op en probeer het opnieuw; Als er nog steeds geen gegevens zijn, controleer dan de sensorbedrading of neem contact op met de klantenservice om het softwarestuurprogramma te controleren.

Hoe kan ik de apparatuur stoppen in geval van nood?

Druk op "EMO Emergency Stop" om de warmtebron uit te schakelen en het deksel te openen; nadat de fout is opgelost, drukt u op "RESET" om te resetten en opnieuw op te starten.